Lithium ion Powerwall

În mod obișnuit, celulele solare de siliciu cristalin sunt fabricate pe High - Wafers de siliciu de calitate 350-450 μm grosime, tăiat din lingouri de siliciu tras sau turnat.

Metodele de mai sus consumă de fapt mai mult material de siliciu. Pentru a conserva materialul, depunerea de vapori chimici (CVD) este în prezent cea mai frecventă metodă folosită pentru producerea celulelor de film policristaline {- celule de film, incluzând scăzut - Depunerea de vapori chimici de presiune (LPCVD) și plasmă - depunerea de vapori chimici îmbunătățite (pecvd). Lichid - Epitaxia de fază (LPPE) și depunerea de sputtering pot fi, de asemenea, utilizate pentru a produce celule de film policristaline subțiri -.

CVD folosește în primul rând SIH2CL2, SIHCL3, SICL4 sau SIH4 ca gaz reactant. În cadrul unei atmosfere de protecție, atomii de siliciu reacționează pentru a forma atomi de siliciu, care sunt apoi depuși pe un substrat încălzit. Materialele de substrat includ de obicei SI, SiO2 și SI3N4. Cu toate acestea, cercetările au arătat că formarea de cereale mari pe substraturi de siliciu non - este dificilă, iar lacunele dintre boabe sunt ușor formate.

Soluția la această problemă este de a depune mai întâi un strat subțire de siliciu amorf pe un substrat folosind LPCVD, apoi anexa acest strat pentru a produce boabe mai mari. Filmele subțiri de siliciu policristalin gros sunt apoi depuse pe acest cristal de semințe. Prin urmare, tehnologia de recristalizare este, fără îndoială, un pas crucial. În prezent, principalele tehnologii utilizate sunt solide - cristalizare în fază și MID - Recristalizarea topirii zonei. În plus față de procesul de recristalizare, celulele de film policristaline subțiri - utilizează, de asemenea, aproape toate tehnicile utilizate pentru fabricarea celulelor solare de siliciu cristalin -. Acest lucru îmbunătățește semnificativ eficiența de conversie a celulelor solare rezultate.